光刻工藝工程師(J39146)
面議
應(yīng)屆畢業(yè)生
學(xué)歷不限
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- 全勤獎(jiǎng)
- 節(jié)日福利
- 不加班
- 周末雙休
職位描述
該職位還未進(jìn)行加V認(rèn)證,請(qǐng)仔細(xì)了解后再進(jìn)行投遞!
工作職責(zé):
1、主要工作內(nèi)容:
(1)負(fù)責(zé)涂膠顯影設(shè)備Setup與工藝Recipe調(diào)試;(20%)
(2)負(fù)責(zé)各類先進(jìn)封裝與MEMS器件Litho工藝可行性分析,全新Litho工藝開發(fā),制程優(yōu)化,以及器件Litho制程制作;(30%)
(3)負(fù)責(zé)Litho工藝不良預(yù)防措施制訂,工藝缺陷及失效分析,不良改善及良率提升;(20%)
(4)負(fù)責(zé)光刻新材料評(píng)估、選型與導(dǎo)入;(20%)
2、次要工作內(nèi)容:
根據(jù)項(xiàng)目需求,負(fù)責(zé)內(nèi)/外部工作溝通、協(xié)調(diào)與推動(dòng);(10%)
任職資格:
教育程度:碩士
工作經(jīng)歷:
5年以上半導(dǎo)體Litho工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn),有涂膠顯影設(shè)備Setup經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先;
技術(shù)能力:
(1)具備Track設(shè)備Setup能力;
(2)熟悉半導(dǎo)體Track設(shè)備,有多類光刻材料工藝調(diào)試經(jīng)驗(yàn);
(3)熟練半導(dǎo)體行業(yè)i/g線光刻膠及顯影液材料;
所需專業(yè):
物理、化學(xué)、材料學(xué)、機(jī)械等理工科相關(guān)專業(yè);
其他要求:
良好的分析與解決問題的能力,良好的團(tuán)隊(duì)意識(shí)和責(zé)任心;
1、主要工作內(nèi)容:
(1)負(fù)責(zé)涂膠顯影設(shè)備Setup與工藝Recipe調(diào)試;(20%)
(2)負(fù)責(zé)各類先進(jìn)封裝與MEMS器件Litho工藝可行性分析,全新Litho工藝開發(fā),制程優(yōu)化,以及器件Litho制程制作;(30%)
(3)負(fù)責(zé)Litho工藝不良預(yù)防措施制訂,工藝缺陷及失效分析,不良改善及良率提升;(20%)
(4)負(fù)責(zé)光刻新材料評(píng)估、選型與導(dǎo)入;(20%)
2、次要工作內(nèi)容:
根據(jù)項(xiàng)目需求,負(fù)責(zé)內(nèi)/外部工作溝通、協(xié)調(diào)與推動(dòng);(10%)
任職資格:
教育程度:碩士
工作經(jīng)歷:
5年以上半導(dǎo)體Litho工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn),有涂膠顯影設(shè)備Setup經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先;
技術(shù)能力:
(1)具備Track設(shè)備Setup能力;
(2)熟悉半導(dǎo)體Track設(shè)備,有多類光刻材料工藝調(diào)試經(jīng)驗(yàn);
(3)熟練半導(dǎo)體行業(yè)i/g線光刻膠及顯影液材料;
所需專業(yè):
物理、化學(xué)、材料學(xué)、機(jī)械等理工科相關(guān)專業(yè);
其他要求:
良好的分析與解決問題的能力,良好的團(tuán)隊(duì)意識(shí)和責(zé)任心;
工作地點(diǎn)
地址:北京大興區(qū)西環(huán)中路12號(hào)
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職位發(fā)布者
HR
京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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電子技術(shù)·半導(dǎo)體·集成電路
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500-999人
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股份制企業(yè)
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北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號(hào)
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